超纯水(UPW)是集成电路、液晶面板等电子制造产业的重要生产原料,是半导体芯片产品质量的关键影响因素之一。随着我国半导体产业自主化的飞速发展,电子级超纯水水质和水量的要求也越来越高。超纯水因的纯净度和稳定性,在众多高科技和精密制造行业中扮演着重要的角色。
半导体制造业:在芯片制造过程中,超纯水用于清洗、蚀刻、掺杂等关键环节,任何微小的杂质都可能导致半导体性能下降,因此超纯水的质量直接影响到半导体产品的良率和可靠性。
电力行业:特别是核电站中,超纯水用作冷却剂和化学试剂,以减少对设备的腐蚀并维持核反应堆的安全高效运行。
生物科技与医药:在生物技术研发、药物生产、组织培养、DNA测序等领域,超纯水作为溶剂或培养基的组成部分,需确保不引入任何可能干扰生物活性或实验结果的杂质。
光电产业:在液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)及太阳能电池板的制造过程中,超纯水用于清洗、配制电子液体等,确保元件的高性能和长寿命。
实验室研究与检验分析:作为化学试剂配制、样品稀释、仪器清洗的标准用水,超纯水保证了实验数据的准确性和可重复性。
化妆品及食品工业:在化妆品配方和特定食品加工中,超纯水的使用可避免潜在污染物,提升产品纯度和安全性。这些应用彰显了超纯水在现代高科技产业中的基石地位,其纯度直接影响到相关产品质量和技术创新。
超纯水国内没有明确的水质标准,半导体先进制程要求电子级纯水电阻率大于 18.2 MΩ·cm(25 ℃),总有机碳(TOC)小于 1 μg/L,硼质量浓度小于 50 ng/L。目前国内电子半导体行业用水普遍执行电子级水EW-Ⅰ级标准,或者更严格美国ASTM D5127-2013(2018)中Type E-1.2/1.3超纯水水质标准。
电子级超纯水关键水质指标对后续生产的影响 | |
关键水质指标 | 主要影响 |
电阻率 | 综合指标,表征水的离子污染程度。美国Intel公司曾做过对照实验,由电阻率为16MΩ-cm的纯水生产的45/40nm制程产品成品率仅为50%。 |
TOC | 活菌的营养源,可使栅氧化膜尤其是薄栅氧化膜的缺陷密度增大。 |
DO | 水中残留的DO极易在硅片上生成氧化膜,进而影响硅上低温生长出的栅氧化膜的质量和性能。 |
微粒子 | 易造成图形缺陷,当构成元素有P、Na、K等时,其在热处理时内扩散将形成异常导电区,引起器件电器特性不良。 |
活菌 | 细菌残骸造成图形缺陷。 |
全硅 | 通常指可溶解性的硅酸根离子。可降低热生长的氧化物的可靠性,造成磷硅雾,引起阈值电压变化;等离子刻蚀时,二氧化硅也会形成颗粒污染而造成图形缺陷。 |
硼 | 硼元素是p型杂质,过量存在会使n型硅反型,对电子、空穴浓度有重要影响。 |
微量离子 | 特别是碱金属盐类,在扩散工序中可能参与扩散,从而破坏产品电性能。 |
在当今工业生产中,超纯水的应用日益广泛,其水质要求高,几乎接近理论上的纯水。超纯水树脂作为一种关键的水处理材料,为众多行业提供了高品质的超纯水,保障了生产过程的顺利进行。
超纯水树脂,也称为抛光树脂,是一种由阳离子交换树脂和阴离子交换树脂混合而成的高纯度离子交换树脂。它通常用于超纯水处理系统的末端,通过去除水中的阴阳离子,使产水达到超纯水的标准。这种树脂出厂时的离子型态为H型和OH型,装填后无需再生,可直接使用。
超纯水树脂的工作原理基于离子交换技术。在超纯水制备过程中,水先经过预处理、反渗透等步骤进行初步净化。当水流经过抛光混床时,阳离子交换树脂会吸附水中的阳离子(如钙、镁、钠、钾等),而阴离子交换树脂则吸附阴离子(如氯离子、硫酸根离子等),从而实现对水中阴阳离子的深度去除,进一步提升水的纯度。
高纯度:超纯水树脂能够有效去除水中的微量离子,使产水电阻率达到18兆欧以上。
稳定性好:具有良好的化学和物理稳定性,热稳定性高,强度大,交换容量大。
超纯水树脂作为工业用水的“净化卫士”,在众多行业中发挥着不可替代的作用。随着技术的不断进步和市场需求的增长,超纯水树脂的应用前景将更加广阔。